埃频（上海）仪器科技有限公司
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 可以在氧氛围中通过红外加热至1000K； 可以通过红外测温仪测温，配合PID电源辅助控温；集成了面内、轴向的旋转功能；整体可烘烤至200℃。
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| PLD五维样品台 | |
PLD五维样品台专为氧化物PLD系统设计，氧氛围加热样品台可以在10Pa的氧压下配合红外激光器将样品架加热至1000℃，能满足绝大部分氧化物生长需求。样品台拥有五维自由度，其中XY行程25mm，位移精度3um，Z方向行程100mm，精度0.5mm。且能实现绕轴360°旋转与面内360°旋转，这使得五维样品台在进行RHEED监控时可以很方便的通过连续转动样品找到高对称点，这对高质量的单晶薄膜生长与表征是非常重要的。
PLD五维样品台尺寸图
