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磁控旋转加热样品台

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可以实现室温~700℃大范围变温;
可升级氧氛围加热模块(红外激光加热);
可配合PID电源辅助控温;
品可绕加热台z轴旋转,使得生长更均匀;
体可烘烤至200℃; 

 
                磁控旋转加热样品台
 
 
      磁控旋转加热样品台主要用于在磁控溅射时对样品托的控温,样品架背后的灯丝可以实现样品从室温~700℃的大范围均匀变温。整个加热样品台可以实现由电机控制的绕轴旋转,使得生长更加均匀。此外,样品台和加热器可以整体升降,同时也可以调节两者之间的相对距离以满足特殊的生长需求。

                                                     磁控旋转加热样品台尺寸图
 
 
 
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